电子级四氯化硅主要用于薄膜沉积与蚀刻工艺，随着半导体制程的先进化，电子级四氯化硅被广泛使用于逻辑芯片与存储芯片的蚀刻工艺流程。
本标准规定了电子工业用四氯化硅的技术要求、检验规则、试验方法、标志、包装、运输、储存及安全的要求。
本标准适用于工业四氯化硅精制提纯后的电子工业用四氯化硅。
名称：填充柱
材质：316L不锈钢管
规格：3m*2mm*1/8
粒度：0.18mm-0.25mm
型号：Hayesep Q
应用：GB/T 38867-2020 电子工业用四氯化硅
浩瀚色谱（山东）应用技术开发有限公司，采用气相色谱法，预柱+毛细管柱的系统测定电子工业用四氯化硅中三氯氢硅，二氯硅烷，甲基二氯硅烷，柱效高，分离好，结果满意。
Haohan GC System 气相色谱仪
现代实验室始终面临各种各样的实际问题，需要采用切实可行的方法予以解决。处理复杂样品基质、保持数据完整性以及满足用户培训需求等问题可能导致大量的时间和资源浪费。
Haohan GC System 气相色谱仪， 是浩瀚为这些问题提供的一款，快速气相色谱仪，在环境，生物，食品，医药，石化，卫生，院校等行业得到广泛应用.
Haohan GC System 气相色谱仪详情：
1. 工作条件
1.1. 温度： 5°C -- 35°C
1.2. 湿度：5 – 85%
1.3. 电源：AC 220±10%；50±0.5Hz
2. 柱温箱
2.1. 温度：室温5°C -- 400°C
2.2. 程序升温：7阶程升，可扩充16阶
2.3. 在5min内，从400°C降温到50°C
2.4. 温度精度：室温每波动1°C ，柱温箱的温度波动＜0.1°C
2.5. 双通道柱流失补偿
3. 加热区域
3.1. 除柱温箱外，有5个独立的加热区域（3个进样口，2个检测器，2个辅助区）/可扩充
3.2. 辅助区的最大温度：400°C
4. 隔膜吹扫填充柱进样口
4.1. 手动控制压力/流量（可选配电子控制）
4.2. 最高温度400°C
4.3. 压力设定范围：0－100psi
4.4. 气体流量设定范围：0－100mL/min
4.5. 可用于1/4”、1/8”填充柱和0.53mm毛细柱
5. 分流/不分流进样口
5.1. 可以用于50um到530um的色谱柱
5.2. 分流比最大可到3000:1
5.3. 省气模式可以节约气体用量（选配）
5.4. EPC功能（选配）。
5.5. 电子控压精度：0.001 psi（千分之一psi）（选配）
5.6. 最高温度400°C
5.7. 压力范围：0 -- 100psi
6. 冷柱头进样系统（选配）
7. 显示屏
320*240英寸中英文显示界面，更适合产品的出口。
8. 检测器
8.1氢火焰离子化检测器（FID）
最高使用温度：400℃
最小检出限：≤2.5*10 -12 g/s(n-C16)
线性范围：107（±10%）
噪声≤5×10-14A
漂移≤2×10-13 /30min
自动点火方式（选配）
8.2热导检测器（TCD）
适配填充柱及毛细管柱
最高使用温度：300℃
灵敏度S≥3000mv.ml/mg（苯）
灵敏度S≥5000mv.ml/mg（选配）
灵敏度S≥8000mv.ml/mg（选配）
灵敏度S≥10000mv.ml/mg（选配）
线性范围：105（±5%）
漂移：≤0.1mv/30min
噪声：≤20uv
8.3火焰光度检测器（FPD）
最高使用温度：350℃
最小检出限：<2*10 -11 g S/s, <9*10 -13 g P/s
线性范围：>103 S, 104 P
自动点火方式（选配）
8.4电子捕获检测器（ECD）
最高使用温度：400℃
最小检出限：≤1*10 -14 g/s
线性范围：>5*105（±5%）
放射源：<10 mCi, 63Ni
微池设计
8.5氮磷检测器（NPD）
最高使用温度：400℃
最小检出限：≤3*10 -12 g/s
线性范围：105 N, 105 P
最小检测限：<2*10 -13 g N/s, <2*10 -13 g P/s
自动点火方式（选配）
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